如何调整Uno.Platform中ElevatedView的阴影位置实现居中效果

toolkit:ElevatedView本身提供了无需偏移内部内容的阴影调整方案，常用有两种实现方式：

• 优先使用官方内置属性直接控制阴影位置：高版本CommunityToolkit中的ElevatedView内置ShadowOffset属性，专门用于调整阴影的横纵向偏移量，默认正XY值导致阴影落在右下角，直接将该属性设为0,0即可让阴影完全居中环绕视图，代码示例如下：

<toolkit:ElevatedView x:Name="Shadow1" 
                      Elevation="25" 
                      ShadowColor="Gray" 
                      CornerRadius="20" 
                      Background="Transparent"
                      ShadowOffset="0,0">
  <Grid>
    <!-- 无需添加任何Transform，内容正常放置即可 -->
    ...其他内容
  </Grid>
</toolkit:ElevatedView>

注意不要给ElevatedView设置ClipToBounds="True"，否则阴影会被父容器裁剪无法正常显示

• 低版本Toolkit兼容方案：采用双层布局隔离阴影和内容，外层ElevatedView仅负责生成阴影，内层承载实际内容，通过外层Padding适配阴影范围，完全不会触发内容裁剪圆角异常的问题，代码示例如下：

<!-- 外层仅承载阴影 -->
<toolkit:ElevatedView Elevation="25" 
                      ShadowColor="Gray" 
                      CornerRadius="20" 
                      Background="Transparent"
                      Padding="15"> <!-- Padding值根据Elevation大小调整，足够容纳阴影即可 -->
  <!-- 内层放置实际内容，圆角和样式都定义在内层 -->
  <Grid CornerRadius="20" Background="White">
    ...其他内容
  </Grid>
</toolkit:ElevatedView>

如果需要自定义阴影偏移方向，调整外层Padding的上下左右数值即可实现对应效果。

内容的提问来源于stack exchange，提问作者Brett Harned